技術研究組合 極端紫外線露光システム技術開発機構(Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association、以下: EUVA)はEUV露光用LPP光源開発プログラムの中で、104Wの出力を達成したと発表した。その発表を受け、EIVAに参加しているギガフォトン株式会社は製品化に着手した。ギガフォトンはEUVAの参加企業の一社として2002年からEUV露光用LPP光源の開発に取り組んでおり、すず (Sn)と炭酸ガスレーザの組み合わせや、磁場を使ったデブリ除去などユニークな方式を提案してきた。

ギガフォトン代表取締役社長の渡辺裕司は「LPP光源で100Wが達成されたことで、EUV露光装置の経済性が液浸ダブルパターン露光装置と同等になると考えており、将来の400W級EUV露光装置導入の機運を一層高めるものと期待しています。ギガフォトンとしては市場からの2011年出荷への要請に応えるため、初期量産に対応する工場の稼動を今四半期に開始しており、EUVビジネスの準備を着々と進めています」 とコメントしている。

参考：ギガフォトン株式会社ニュースリリース

ギガフォトンとは？

ギガフォトン株式会社公式ウェブサイトより抜粋
ギガフォトン株式会社は2000年、世界2位の建設機械メーカー「コマツ」と、世界最大手の露光用ランプ・メーカー「ウシオ電機株式会社」の合弁会社として発足しました。以来、世界に先がけて次々と半導体リソグラフィ装置向け最新鋭エキシマレーザを製品化し、ギガビット世代の超微細集積回路に対応するリソグラフィ技術の発展に貢献しています。ギガフォトンは、世界トップクラスの露光用エキシマレーザメーカーとして、日本を含むアジア市場ではほとんど全ての半導体メーカーで製品が使用されているほか、欧米市場でも急成長を続けています。

製品開発の背景

波長193nmのArFレーザを使った液浸露光装置によるダブルパターン露光が微細化の限界に達しつつある中、波長が13.5nmと短いEUV光源は、今後数世代にわたってムーアの法則を維持していくことの出来る次世代露光技術ソリューションと考えられています。EUV露光装置導入を実現するにあたって、要素技術の中でも特に光源の大出力化が主要な課題とされており、その技術成果に注目が集まっています。

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